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講演抄録/キーワード
講演名 2013-02-28 11:20
ジュール加熱されたグラフェンの近赤外イメージングによるその場温度測定
齋藤孝成厚母息吹須田隆太郎伊藤光樹白樫淳一東京農工大ED2012-142 SDM2012-171 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-142 SDM2012-171
抄録 (和) 我々は,その場温度観察が可能な近赤外イメージングシステムを利用して,通電下のグラフェンの発熱現象のリアルタイム観察を行った.グラフェンは,ポリイミドフィルムを高温で焼成し作製された安価なグラファイトシートに対して機械的剥離法を適用することで,780 nmの熱酸化膜を有するSiO2/Si基板上に作製した.本研究で使用したグラフェンの膜厚は,フレネルの法則を用いた光学的手法により,およそ20 nmから80 nmと見積もられた.また,本イメージングシステムは,近赤外領域に受光感度を有するCCDカメラと赤外線顕微鏡を組み合わせて独自に開発した.これまでに,本イメージングシステムを用いることにより,通電中のタングステン細線やZn/Ptで構成されたマイクロヒーターの発熱温度分布のIn-Situモニタリングが可能であることを報告している.今回は,本イメージングシステムを利用して,通電下におけるグラフェンの発熱温度分布のその場観察の検討を行った. 
(英) We report temperature distribution of graphene during Joule heating process using in-situ Near-Infrared (NIR) Charge-Coupled Device (CCD) imaging system. Graphene layers were prepared by using mechanical exfoliation of pyrolytic graphite sheet (PGS), which is commercially available from an industrial materials company, and deposited on SiO2/Si substrate with approximately 780 nm thermally grown oxide. The thickness of the graphenes was estimated to be 20-80 nm by using the Fresnel theory. In order to investigate the heating process of the graphene, the temperature of the graphene under current flow was estimated using NIR microscopy with a CCD detector. A hand-made, in-situ experimental setup consists of an IR microscope, a NIR CCD and an image enhancer. The CCD detector is mounted on the IR microscope with objective 20x. The experiments were carried out in obscurity. The current heating process applied with constant voltage was performed for the graphene in vacuum, and the temperature distribution of the graphene during NIR emission was successfully detected by in-situ NIR CCD imaging system. The temperature of graphene was detected to be approximately 800 K. These results imply that NIR CCD imaging system is a useful tool for the investigation of the temperature distribution of graphene.
キーワード (和) 近赤外イメージング / グラフェン / その場観察 / 通電アニール / 発熱温度分布 / / /  
(英) Near-Infrared CCD Imaging / Graphene / In-Situ Measurement / Current-Induced Annealing / Temperature Distribution / / /  
文献情報 信学技報, vol. 112, no. 445, ED2012-142, pp. 77-82, 2013年2月.
資料番号 ED2012-142 
発行日 2013-02-20 (ED, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2012-142 SDM2012-171 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-142 SDM2012-171

研究会情報
研究会 SDM ED  
開催期間 2013-02-27 - 2013-02-28 
開催地(和) 北海道大学(百年記念会館) 
開催地(英) Hokkaido Univ. 
テーマ(和) 機能ナノデバイスおよび関連技術 
テーマ(英) Functional nanodevices and related technologies 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2013-02-SDM-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ジュール加熱されたグラフェンの近赤外イメージングによるその場温度測定 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) In-Situ Temperature Measurements of Joule-Heated Graphene Using Near-Infrared CCD Imaging System 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 近赤外イメージング / Near-Infrared CCD Imaging  
キーワード(2)(和/英) グラフェン / Graphene  
キーワード(3)(和/英) その場観察 / In-Situ Measurement  
キーワード(4)(和/英) 通電アニール / Current-Induced Annealing  
キーワード(5)(和/英) 発熱温度分布 / Temperature Distribution  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 齋藤 孝成 / Takanari Saito / サイトウ タカナリ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 厚母 息吹 / Ibuki Atsumo / アツモ イブキ
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 須田 隆太郎 / Ryutaro Suda / スダ リュウタロウ
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 光樹 / Mitsuki Ito / イトウ ミツキ
第4著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 白樫 淳一 / Jun-ichi Shirakashi / シラカシ ジュンイチ
第5著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agriculture and Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2013-02-28 11:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2012-142, SDM2012-171 
巻番号(vol) vol.112 
号番号(no) no.445(ED), no.446(SDM) 
ページ範囲 pp.77-82 
ページ数
発行日 2013-02-20 (ED, SDM) 


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