受賞
(Awards)
受賞した各賞を掲載しています.


2014年10月22日、 第31回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム優秀技術論文賞、
「超並列電子線描画装置用アクテイブマトリクスナノ結晶シリコン電子源の開発 と動作特性評価」
(東北大・クレステック社のグループと共同受賞)。
The 15th Int. Display Workshops (IDW '08, Dec 9-11, 2008, Niigata, Japan) でパナソニック電工のグループと共同発表した論文(T. Ichihara, T. Hatai, N. Koshida: Direct Excitation of Xenon by Ballistic Electrons Emitted from Nanocrystalline Silicon Planar Cathode and Vacuum-Ultraviolet Light Emission)がBest Paper Award を受賞。
Toshiyuki Ohta:
"The 24th Young Scientist Award for the Presentation, ("講演奨励賞" in Japanese)",
Japan Society of Applied Physics (2008).
越田 信義、NHK放送技研・パイオニア・浜松ホトニクスのグループと共同受賞 「1インチ256×192画素アクティブ駆動型HEED冷陰極HARP撮像板」 (映像情報メディア学会誌2007年3月号所載) 映像情報メディア学会丹羽柳賞「論文賞」(2008年5月26日)
越田 信義 「量子サイズシリコンの光電子機能探求と素子応用に関する研究」 応用物理学会第1回(2007年度)フェロー表彰受賞(2007年8月)
Nobuyoshi Koshida:
"For pioneering research in the science and technology of quantum-sized silicon" Fellow of The Electrochemical Society (2006年10月)   
越田 信義 「ナノ結晶シリコン超音波エミッタを用いた空中超音波イメージセンサの開発」 財団法人電気科学技術奨励会 第53回 電気科学技術奨励賞(オーム技術賞)(平17年11月)
Kenji Tsubaki, Takuya Komoda and Nobuyoshi Koshida:
"Enhancing the Sound Pressure of Thermally Induced Ultrasonic Emitter Based on Nanocrystalline Porous Silicon" (Materials Research Society Symp. Proc. Vol. 832).
Outstanding Paper Award (Ribbon Award) of 2004 MRS Fall Meeting Symp. F "Group IV Semiconductor Nanostructures" (Nov 29 〜Dec 3, 2004, Boston).
Matsushita Electric Works and Koshida Laboratry Collaboration Team:
"Fujio Frontier Award ("藤尾フロンティア賞" in Japanese)"
The Institute of Image Information and Television Engineers (2001).
Morio Takahashi:
"Poster Award ("the best poster of the day")"
International Conference on Porous Semiconductors Science and Technology (2000).
Yoshiki Nakajima:
"The 8th Young Scientist Award for the Presentation, ("講演奨励賞" in Japanese)",
Japan Society of Applied Physics (2000).
Xia Sheng: "The 5th Young Scientist Award for the Presentation, ("講演奨励賞" in Japanese)", Japan Society of Applied Physics (1998).





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